特别是，溅射法由于具有良好的可控性和易于获得大面积均匀的薄膜 。2.2.1磁控溅射法镀膜： 溅射镀膜（sputtering deposition）是指用离子轰击靶材表面，使靶材的原子被轰击出来，溅射产生的原子沉积在基体表面形成薄膜 。
溅射镀膜有二级、三级或四级溅射、磁控溅射、射频溅射、偏压溅射、反应溅射、离子束溅射等装置 。目前最常用的制备CoPt 磁性薄膜的方法是磁控溅射法 。
磁控溅射法是在高真空充入适量的氩气，在阴极（柱状靶或平面靶）和阳极（镀膜室壁） 之间施加几百K 直流电压，在镀膜室内产生磁控型异常辉光放电，使氩气发生电离 。氩离子被阴极加速并轰击阴极靶表面，将靶材表面原子溅射出来沉积在基底表面上形成薄膜 。
通过更换不同材质的靶和控制不同的溅射时间，便可以获得不同材质和不同厚度的薄膜 。磁控溅射法具有镀膜层与基材的结合力强、镀膜层致密、均匀等优点 。
2.2.2真空蒸发镀膜： 真空蒸发镀膜（vacuum vapor deposition）是在工作压强低于10-2 Pa，用蒸发器加热物质使之汽化蒸发到基片，并在基片上沉积形成固态薄膜的一种工艺方法 。真空蒸发的加热方式主要有电阻加热蒸发、电子束加热蒸发、高频加热蒸发和激光加热蒸发等 。
对于镀制透明导电氧化物薄膜而言，其真空蒸发镀膜工艺一般有三种途径：（1）直接蒸发 。
7. 谁知道本科生毕业论文的文献综述怎么写啊 最低0.27元开通文库会员，查看完整内容> 原发布者：国际标准商城 本科毕业论文开题报告中的文献综述怎么写综述的主体格式综述的主体一般有引言、正文、总结、参考文献四部分 。
引言部分引言用于概述主题的有关概念、定义，综述的范围、有关问题的现状、争论焦点等，使读者对综述内容有一个初步轮廓 。这部分约200—300字 。
正文部分正文部分主要用于叙述各家学说、阐明所选课题的历史背景、研究现状和发展方向 。其叙述方式灵活多样，没有必须遵循的固定模式，常由作者根据综述的内容，自行设计创造 。
一般可将正文的内容分成几个部分，每个部分标上简短而醒目的小标题，部分的区分也多种多样，有的按国内研究动态和国外研究动态，有的按年代，有的按问题，有的按不同观点，有的按发展阶段，然而不论采用何种方式，都应包括历史背景、现状评述和发展方向三方面的内容 。历史背景方面的内容：按时间顺序，简述本课题的来龙去脉，着重说明本课题前人研究过没有？研究成果如何？他们的结论是什么？通过历史对比，说明各阶段的研究水平 。
现状评述又分三层内容：第一，重点论述当前本课题国内外的研究现状，着重评述本课题目前存在的争论焦点，比较各种观点的异同，亮出作者的观点；第二，详细介绍有创造性和发展前途的理论和假说，并引出论据（包括所引文章的题名、作者姓名及体现作者观点的资料原文） 。发展方向方面的内容：通过纵（向）横（向）对比，肯定本课题目前国内外已达到的研究水平，指出存在的问题，提出可能的发展趋势，指明研究方向，提出可能解决的方法 。
正文部分 。
【本科论文文献综述怎么写】
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